濺射鍍膜機(jī) 真空鍍膜設(shè)備鍍膜工藝主要受哪幾個(gè)參數(shù)影響呢？ 

磁控鍍膜機(jī)里面的工藝參數(shù)有很多很多，每個(gè)參數(shù)對(duì)磁控濺射系統(tǒng)來(lái)說(shuō)都是非常重要的因素，因?yàn)橐粋€(gè)參數(shù)未達(dá)標(biāo)，都沒(méi)辦法完成所需要達(dá)到的要求，下面給大家介紹真空鍍膜設(shè)備幾個(gè)常見(jiàn)比較重要參數(shù)，希望能幫助到大家：

一.濺射閾值：

       將靶材原子濺射出來(lái)所需的入射離子小能量值。與入射離子的種類(lèi)關(guān)系不大、與靶材有關(guān)。在能離子量超過(guò)濺射閾值后，隨著離子能量的增加，在150ev以前，濺射產(chǎn)額和離子能量的平方成正比；在150ev~1kev范圍內(nèi)，濺射產(chǎn)額和離子能量成正比；在1kev~10kev范圍內(nèi)，濺射產(chǎn)額變化不顯著；能量再增加，濺射產(chǎn)額卻顯示出下降的趨勢(shì)。以下是幾種金屬用不同入射離子轟擊的濺射閾值。

二.濺射產(chǎn)額：

       入射離子轟擊靶材時(shí)，平均每個(gè)正離子能從靶材打出的原子數(shù)。影響因素主要有以下幾方面：

       1.濺射產(chǎn)額隨靶材原子序數(shù)的變化表現(xiàn)出某種周期性，隨靶材原子d殼層電子填滿(mǎn)程度的增加，濺射產(chǎn)額變大（大致的變化趨勢(shì)）。

       2.入射離子種類(lèi)對(duì)濺射產(chǎn)額的影響，濺射產(chǎn)額隨入射原子序數(shù)增加而周期性增加。相應(yīng)于45Kev的各種入射離子，銀、銅、鉭的濺射產(chǎn)額

       3.離子入射角度對(duì)濺射產(chǎn)額的影響，對(duì)相同的靶材和入射離子，濺射產(chǎn)額隨離子入射角增大而增大，當(dāng)角度增大到70?~80 ?時(shí)，濺射產(chǎn)額大。繼續(xù)增大入射角，濺射產(chǎn)額急劇減小，90?時(shí)濺射產(chǎn)額為零。

       4.靶材溫度對(duì)濺射產(chǎn)額的影響，一般來(lái)說(shuō)，在可以認(rèn)為濺射產(chǎn)額同升華能密切相關(guān)的某一溫度范圍內(nèi)，濺射產(chǎn)額幾乎不隨溫度的變化而變化。當(dāng)溫度超過(guò)這一范圍時(shí)，濺射產(chǎn)額有急劇增加的傾向。